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DMEM high glucose medium
DMEM高糖培养基 （含L谷氨酰胺，含丙 酮酸钠）培养条件：
完全培养基：DMEM高糖培养基90%；胎牛血清10%。
培养条件：37.0C carbon dioxide(CO2),5%
DMEM高糖培养基 （含L谷氨酰胺，含丙 酮酸钠）制备:
1. 分离和培养宿主细胞；
2. 通过病毒介导或者其它的方式将多能性相关的基因导入宿主细胞；
3. 将病毒感染后的细胞种植于饲养层细胞上，并在ES细胞专用培养体系中培养，同时在培养期间根据需要加入相应的小分子物质以促其重编程；
4. 出现ES样克隆后进行IPS细胞的鉴定（细胞形态、特定基因的表达、表观遗传修饰、体外分化潜能等方面）。
细胞生长：贴壁生长
细胞形态：上皮样；多角形
细胞传代：1:2-1:4传代；每周2-3次
DMEM高糖培养基 （含L谷氨酰胺，含丙 酮酸钠）传代方法：
收到细胞后，取出培养瓶在倒置显微镜下观察细胞生长情况。
一．如果细胞未长满，用75%酒精喷洒整个瓶消毒后放到超菌台内，严格无菌操作，打开细胞培养瓶，吸出培养液，仅留下10ml培养液在瓶内继续培养。
二．如果细胞已长满，即可进行传代培养。具体步骤如下：
1. 弃去培养液，用PBS（不含钙，镁离子）洗1-2次。
2. 加1ml消化液（0.25%Trypsin-0.53mM EDTA）于培养瓶中，倒转放于37度培养箱1-3分钟预热，然后又将培养瓶倒转大约30秒后，在倒置显微镜下观察细胞消化情况，若细胞大部分变圆分散，轻敲几下培养培养瓶，细胞随即脱落下来。
3. 加入6-8ml完全培养基，吸出，分到新的培养瓶中。1:3~1:6传代；2~3天1次
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文献和实验、 HEPES( 羟乙基哌嗪乙硫磺酸 )10—50mmol/ml 可防止 pH 变化。 含 Earle's 缓冲系统的培养基适合于 5 ％ CO 2 的培养条件， Hanks' 缓冲系统的培养基仅含有 0.35g /L NaHCO 3 ，不能用于 5 ％ CO 2 的环境，若放入 CO 2 培养箱，溶液将迅速变酸，使用时应注意。 湿度和光 开放培养相对湿度控制在 95% 。细胞培养需避光，紫外线或可见光可造成核黄素、酪氨酸、色氨酸等产生有毒的光产物，抑制细胞生长，降低其贴壁能力。 影响细胞
性，一般与激素或其它物质起相互协同或加成作用。另一种常见的添加物就是血清替代物，目前已有许多可完全或部分替代传统培养液中血清成分的商业产品，其稳定性较好，但批次间仍有差别，产品的成分也不很确定。2、细胞培养基配制 2.1 干粉培养基原倍液的配制 1）配制过滤除菌的细胞培养基 1）阅读培养基使用说明，确定需要添加何种添加剂（如NaHCO3、L-谷氨酰胺、丙酮酸钠、HEPES等）。 2）根据所需将培养基全部倒入一容器中，用少量注射用水（20℃～30℃）将袋内残留培养基洗下，并入容器。加注射用水至总体
冲系统和调节CO2含量，维持正常pH。 开放培养要求5%CO2环境、HEPES(羟乙基哌嗪乙硫磺酸)10—50mmol/ml可防止pH变化。 含Earle’s缓冲系统的培养基适合于5％CO2的培养条件，Hanks’缓冲系统的培养基仅含有0.35g/L NaHCO3，不能用于5％CO2的环境，若放入CO2培养箱，溶液将迅速变酸，使用时应注意。 湿度和光 开放培养相对湿度控制在95%。细胞培养需避光，紫外线或可见光可造成核黄素、酪氨酸、色氨酸等产生有毒的光产物，抑制细胞生长，降低其贴壁能力。 影响
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