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- 浮雕相衬用高级物镜 CPLFLN-RC/LUCPLFLN-RC
- 2025年07月16日
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奥林巴斯OLYMPUS
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浮雕相衬用高级物镜 CPLFLN-RC/LUCPLFLN-RC
The CPLFLN-RC/LUCPLFLN-RC semi-apochromat objectives are designed for relief contrast microscopy. These objectives have long working distances with good image flatness, making them well-suited for use with modulated oblique illumination that enables three-dimensional imaging of unstained live specimens in plastic dishes and cell culture devices.
| 产品名称 | CPLFLN10XRC | |
|---|---|---|
| 图像／透过率 |  |
|
| 尺寸 |  |
|
| 咨询 | 联系我们 | |
| 主要应用 |
|
|
| 放大倍率 | 10 | |
| 数值孔径（N.A） | 0.3 | |
| 工作距离（毫米） | 9 | |
| 物镜的视场数（毫米） | 22 | |
| 盖玻片厚度 (mm) | 1.5 | |
| 浸液 | 空气/干燥 | |
| 弹簧 | 不适用 | |
| 校正环 | 不适用 | |
| Remarks (Correction Collar) | ||
| 孔径光阑 | 不适用 | |
| 色差的校正水平 | 半复消色差（FL） | |
| 齐焦距离（毫米） | 45 | |
| 后焦面（BFP）位置（毫米） | -18.6 | |
| 螺纹类型 | W20.32×0.706 (RMS) | |
| 明场（反射） | 不适用 | |
| 明场（透射） | 良好 | |
| 暗场（反射） | 不适用 | |
| 暗场（透射） | 良好 | |
| DIC（微分干涉差）（反射） | 不适用 | |
| DIC（微分干涉差）（透射） | 不适用 | |
| 相差 | 不适用 | |
| 相衬 | 优秀 | |
| 偏光 | 不足 | |
| 荧光（B，G激发） | 良好 | |
| UV荧光(365nm处) | 良好 | |
| 多光子 | 不适用 | |
| TIRF | 不适用 | |
| IR | 不适用 | |
| WLI | 不适用 | |
| 自动对焦 (IX3-ZDC2) | 不适用 |
| 产品名称 | LUCPLFLN20XRC | |
|---|---|---|
| 图像／透过率 |  |
|
| 尺寸 |  |
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| 咨询 | 联系我们 | |
| 主要应用 |
|
|
| 放大倍率 | 20 | |
| 数值孔径（N.A） | 0.45 | |
| 工作距离（毫米） | 6.60 - 7.80 | |
| 物镜的视场数（毫米） | 22 | |
| 盖玻片厚度 (mm) | 0 - 2.00 | |
| 浸液 | 空气/干燥 | |
| 弹簧 | 不适用 | |
| 校正环 | 有 | |
| Remarks (Correction Collar) | Cover Glass: 0 - 2.0mm |
|
| 孔径光阑 | 不适用 | |
| 色差的校正水平 | 半复消色差（FL） | |
| 齐焦距离（毫米） | 45 | |
| 后焦面（BFP）位置（毫米） | -18.5 | |
| 螺纹类型 | W20.32×0.706 (RMS) | |
| 明场（反射） | 不适用 | |
| 明场（透射） | 良好 | |
| 暗场（反射） | 不适用 | |
| 暗场（透射） | 良好 | |
| DIC（微分干涉差）（反射） | 不适用 | |
| DIC（微分干涉差）（透射） | 不足 | |
| 相差 | 不适用 | |
| 相衬 | 优秀 | |
| 偏光 | 不足 | |
| 荧光（B，G激发） | 良好 | |
| UV荧光(365nm处) | 良好 | |
| 多光子 | 不适用 | |
| TIRF | 不适用 | |
| IR | 不适用 | |
| WLI | 不适用 | |
| 自动对焦 (IX3-ZDC2) | 不适用 |
| 产品名称 | LUCPLFLN40XRC | |
|---|---|---|
| 图像／透过率 |  |
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| 尺寸 |  |
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| 咨询 | 联系我们 | |
| 主要应用 |
|
|
| 放大倍率 | 40 | |
| 数值孔径（N.A） | 0.6 | |
| 工作距离（毫米） | 3.00 - 4.20 | |
| 物镜的视场数（毫米） | 22 | |
| 盖玻片厚度 (mm) | 0 - 2.00 | |
| 浸液 | 空气/干燥 | |
| 弹簧 | 不适用 | |
| 校正环 | 有 | |
| Remarks (Correction Collar) | Cover Glass: 0 - 2.0mm |
|
| 孔径光阑 | 不适用 | |
| 色差的校正水平 | 半复消色差（FL） | |
| 齐焦距离（毫米） | 45 | |
| 后焦面（BFP）位置（毫米） | -18.9 | |
| 螺纹类型 | W20.32×0.706 (RMS) | |
| 明场（反射） | 不适用 | |
| 明场（透射） | 良好 | |
| 暗场（反射） | 不适用 | |
| 暗场（透射） | 良好 | |
| DIC（微分干涉差）（反射） | 不适用 | |
| DIC（微分干涉差）（透射） | 不足 | |
| 相差 | 不适用 | |
| 相衬 | 优秀 | |
| 偏光 | 不足 | |
| 荧光（B，G激发） | 良好 | |
| UV荧光(365nm处) | 良好 | |
| 多光子 | 不适用 | |
| TIRF | 不适用 | |
| IR | 不适用 | |
| WLI | 不适用 | |
| 自动对焦 (IX3-ZDC2) | 不适用 |
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文献和实验的 LMPLFLN 或 SLMPLN 长工作距离物镜比较适合。 6. 需要观察荧光样品，荧光信号亮度如何？ 如果观察的是微弱荧光信号的样品，可以使用能够汇聚更多光线的高数值孔径物镜。奥林巴斯可提供从紫外线（UV）到近红外（NIR）荧光激发的众多品类显微镜物镜。 7. 使用的是多通道还是单通道荧光成像？ 为了补偿色差校正，可以使用不同类型的物镜：消色差物镜，半复消色差物镜和复消色差镜。消色差物镜的校正性能最低，半复消色差物镜（或萤石）可进行额外的球面校正，而复消色差物镜可进行最高级别的色差校正。 如果应用
2. 准备成像 设备接通电源后，需要花一些时间适当准备、放置和调平样品才能进行成像。 准备样品 首先，选择适当的盖玻片。盖玻片应为 1.5 或 0.17 毫米厚（170 微米）。配合盖玻片使用的奥林巴斯物镜需要合适的厚度才能获得良好的图像质量。如果盖玻片太厚或太薄，可能会出现光学伪影。 务必检查盖玻片的厚度，并使用标准载玻片。某些应用可以使用塑料载玻片。但对于荧光成像而言，塑料具有自发荧光特性。它会在蓝色和绿色通道（有时在红色通道）中产生明显的背景。 另外在成像之前清洁盖玻片和载玻片也非常重要。比较
显微操作技术（micromanipulation technique）
相衬观察方式(简称RC观察方式).绝对不能选择相差观察方式，因为相差观察在显微镜观察下只能看到平面效果，根本没有3D效果，这样在做显微操作时很难进行注射，因为都是平面效果，下针比较困难，所以显微镜的观察方式一定要选择---浮雕相衬观察方式，显微操作的最佳选择:浮雕相衬观察方式(简称RC). 原因在于浮雕相衬系统能够产生高反差的3D 图像，可用于塑料器皿中的样品。浮雕相衬用于细胞 受精，使细胞 核膜可以更容易看到和穿刺。 所以选择好的显微镜和观察方式是完成显微操作系统的前提
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