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ALD原子层沉积系统(R-series ALD)

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  • Picosun
  • 芬兰
  • R系列
  • 2025年07月16日
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      Picosun

    产品概述

    PICOSUN™ R系列反应器独特的热壁、喷淋、双腔体设计保证了最高质量的薄膜沉积。沉积的薄膜均匀性极其优异,即使衬底结构十分复杂,如多孔材料、高深宽比的沟槽或者纳米颗粒。Picosun的ALD功能强大,可以在硅平面基片,3D复杂基片及所有纳米尺度的特征器件上制备无颗粒的薄膜材料,固、液、气前驱体源更换方便。
    基本特征参数
    基片尺寸与类型 50 – 200 mm/单片
    150mm多片/小批量
    156 mm x 156 mm太阳能电池片
    3D复杂表面衬底
    粉末与颗粒
    多孔材料及高深宽比材料
    工艺温度 50 – 500 °C,可定制达650 °C高温模块
    基片传送选件 气动升降(手动装载)
    预真空室(Load lock)
    半自动的机械装载
    集群系统的批量装载(Cassette-to-cassette)
    前驱体 液态,固态,气态,臭氧,等离子体
    6根独立源管线,最大加载12个前驱体源
    规格
    重量 350 + 200 kg
    尺寸 (W x H x D) 取决于配件
    最小 146 cm x 146 cm x 84 cm
    最大 189 cm x 206 cm x 111 cm
    配套设施
    电源 400 V,三相,含零线 ; 200-210V,三 相,50/60 Hz
    保险丝3 x 16 A
    功率大小根据选件而定
    真空系统 推荐抽速:100 – 420 m3/h
    颗粒捕集器和反应残留物燃烧室
    载气 99.999 % N2 / Ar,≥ 2 slm
    压缩空气 4 – 5.5 bar
    冷却水 只用于干式真空泵、离子体发生器、QCM,反应器无需冷却水
    排气系统 真空泵,气源柜
    选件
    PICOFLOW™ 扩散增强器,QCM,RGA,超高真空兼容,N2发生器,尾气处理器,客户定制,手套箱集成。

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