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- 2026年01月16日
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广州科适特科学仪器有限公司
MINFLUX-超高光学分辨率显纳镜
传统的单分子定位超分辨是通过相机采集尽量多的衍射极限像点，再通过算法来确立单个荧光分子的位置，实 际产生的最好分辨率(xy)约为20nm。而MINFLUX反其道而行之，以尽可能小的激发强度和最少信号光子数, 即时标定荧光分子的位置。以极低的信号光子数，在光学显微镜中首次获得＜2nm的xy定位精度，并且成功 推广到双色，三维和活细胞的应用中！
MINFLUX （inimal photon fluxes）荧光分子空间定位技术达到了 1nm 的定位精度. 通过引入 MINFLUX 显纳镜, Abberior 公司提供了第一个达到一个分子大小分辨率的商品化光学显微镜.
以前的定位技术是通过相机上衍射极限图像的质心或最大值来确立单个荧光分子的位置，实际产生的分辨率为 10-30 nm。
而 MINFLUX 以最小的激发强度探测发射荧光的分子的位置，因此可以将高精度定位所需的荧光光子数量减少 20 倍。同样对于一定量的光子，精度得到提高，因此，在光学显微镜中首次获得低于 2nm 的定位精度！
MINFLUX 可以高达 10 kHz 的频率追踪分子运动，即每 100 微秒一个数据点，这比基于相机的跟踪快 100 倍。另外由于每次定位所需的荧光光子数量较少，它可以在几秒钟内追踪单个分子（例如，20 纳米精度下进行 28000 个定位）。
由于 MINFLUX 系统是基于一个标准的显微镜体和一个主动型亚纳米稳定系统，因此它可以添加所有传统的成像方式，如宽场荧光、共聚焦甚至 STED 成像。这种的可能性可以记录从几微米到几纳米的所有尺度的图像
| 共聚焦和STED成像用激发激光 | 405 （连续）、440、485、518、561、594、640 nm , 40MHz 皮秒脉冲激光可选。 |
| STED激光 | 775nm 标准功率型 1-1.25W@40MHz z A0M 调控;高功率型 2750mW@40MHz , AOM 调控,成像分辨率＜ 30nm ,最高可以达到20nm ; 595nm功率400mW@40MHz , AOM调控，成像分辨率＜ 40nmo |
| 显微镜 | 全电动倒置荧光显微镜；6孔电动物镜转盘；电动聚焦精度10nm;倾角可调目 镜观察筒；手动聚光镜；液晶触控面板；电动XY扫描台；宽场LED荧光照明， 405nm/470nm/590nm/635nm ;宽场1280x9601/2英寸CCD ,定制红外Z轴防漂移装置， 人机工学嵌入式主动防震台。 |
| 成像和扫描单元 | 可选60x水（NA1.2 ）、 100x油（NA1.4 ）或100x硅油（NA1.3 ）等物镜,匹配STED光斑； 标准配置2个APD检测器，最多可升级至8个APD检测器，每个APD配有最高质量滤 色片或独立彩虹光谱检测套装保证低损，无背景，可变光谱检测； 专利的4镜扫描（QUAD・scamer）光路设计，保证视野内任何位置的STED光斑处于完 美状态,扫描分辨率16000X16000。 |
| 共聚焦部分 | 脉冲激光结合高速、高量子效率光子计数级APD成像，门控检测。16档电动针孔转轮。 |
| STED超分辨率部分 | 像操作共聚焦显微镜一样，单次扫描可以直接呈现清晰的超分辨图像； 全自动全光路校正模块，日常维护，对所有激光共聚焦、STED光路及针孔对中时间＜ 2分钟； Easy3D STED模块通过空间光调制器（SLM ）调控2D-3D STED光斑分配和质量，单光路 同轴产生3D STED光斑； 2D-STED 分辨率 ＜ 30nmx30nm ; 3D -STED 分辨率 ＜ 100nmx100nmx100 nm ,可达 75nmx75nmx75nm0 |
| 可选自适应光学（Adaptive Optics） | 空间光调制器（SLM ）用于产生完美2D-3D STED多纳圈，并对其做光学误差校准； 可形变镜（Deformable mirror ）用于厚组织样品3D STED成像，并对全系统做光学误差校正。 |
| 可选自适应照明(Adaptive Illumination) | RESCue智能照射模块，基于共聚焦预扫，非样品区STED光照剂量大幅降低，大大降低漂白； DyMIN智能照射模块,基于共聚焦信息，产生STED中间分辨率预扫,进一步减少最终 STED的光剂量，同时增强信号强度约一个数量级，分辨率可达25nm （ 2D ）（取决于标 本和染料）；MINFIELD智能照射模块，利用STED光斑中心进行小视野的精细低漂白、 高精度扫描,在200nmx200nm范围内分辨率可达20nm （ 2D ）（取决于标本和染料）。 |
| 荧光染料 | 可提供Abberior STAR和LIVE系列，以及MINFLUX成像染料包,含缓冲液，具备极高的 荧光量子产率、高信噪比和抗淬灭性。 |
| STED和MINFLUX成像软件 | 简化软件操作,高度自动化的设置引擎使用户完全不用操心非必要参数； 逐级开放允许高级用户完全控制。 |
| MINFLUX专用激光器及全自动校准光路 | MINFLUX专用活化标本用激光405 nm （连续型）50 mW ; MINFLUX专用激发标本用激光561nm（连续型）〉1000mW ; MINFLUX专用激发标本用激光642nm（连续型）〉1000mW ; •专利超稳定单光束设计； •软件控制全光路全自动校准； -适用于自适应光学:空间光调制器（SLM ）及可形变镜（Deformable mirror）。 |
| MINFLUX专用三维纳米精度主动型定位 稳定系统 |
基于定位标记物的光学传感 •高动态xyz压电，70卩mx70卩mx50卩m范围，亚纳米分辨率和毫秒范围响应时间。 |
| MINFLUX成像专用超高興束扫描系统 | •基于精度小于1nm的电光偏转器的超高速（＞100 kHz ）精细光束扫描和定位; •400-950nm波长范围； •偏转效率7.1岬山7; •典型转换率为2000伏/微秒的高压放大器（+-150V ） O |
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文献和实验物学，为人类对生物学和显微镜的研究开启了一个新时代。 随后，光学显微技术经历了不断的革新，以越来越高的分辨率与成像质量，引导人类向无尽的微观世界发起无穷的探索。特别是上世纪以来，随着人类对生命现象本质研究的逐渐深入，生命科学涉及问题的日益深化，检验医学对快速准确检测手段需求的不断提高，光学显微技术得到了突飞猛进的发展。 超分辨荧光显微成像技术 1873 年，德国物理学家恩斯特·阿贝提出了光学成像系统的衍射极限理论，指出光学显微镜的分辨率极限大约是可见光波长的一半（约 200nm），这被称为「阿贝极限
值孔径的增加而减小。 4. 分辨率要求是什么？ 显微镜物镜的分辨率决定了两个可观察物体之间的最小距离。其与光的照射波长成正比，与数值孔径成反比。 数值孔径越高，两个物体之间的距离就越小。 5. 需要什么样的工作距离？ 工作距离（WD）即在标本对焦时从物镜前透镜到盖玻片最近表面的距离。工作距离与数值孔径成反比，意味着数值孔径较高的物镜通常具有较短的工作距离。 如果应用是不需要盖玻片并且要求焦平面与物镜末端之间的距离更长（也就是观察具有不规则形貌、精细结构或受到整体光学组件机械约束的样品），奥林
文献速递｜Science 子刊 ：少突胶质前体细胞调控免疫反应及多发性硬化症早期脱髓鞘新机制
转盘共聚焦显微镜）， SpinSR 超分辨显微镜系统通过采用双转盘设计，具有超高分辨率（120nm）、快速成像（200fps）、多模式（宽场、共聚焦和超分辨率模式、）轻松切换等功能，大大地提高了科研工作者的工作效率。 图 5. 奥伟登（Evident）IXplore IX85 SpinSR 转盘共聚焦显微镜 本研究的第一作者为中山大学附属第七医院助理研究员王琪。陆军军医大学牛建钦教授（Lead Contact）、中山大学附属第七医院易陈菊研究员和陆军军医大学万瑛教授为通讯作者。 参考
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