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GD-Profiler 2 辉光放电光谱仪
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GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体(和/或)非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。
GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度,深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外,还采用了多项专利技术,如高动态检测器(HDD)可测试ppm-100%的浓度范围,专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。
技术参数:
1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短,表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量,因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器(HDD)可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪(选配)可极大地提高仪器灵活性,可实现固定通道外任意一个元素的同步测试,称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。
更多指标参数请访问HORIBA官网
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Depth Profile analysis of organic and organicinorganic multilayered materials by pulsed RF GDOES.pdf 附件下载 (下载 0 次)
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“UFS” a patented key development for.pdf 附件下载 (下载 0 次)
Measurement of halogen elements by RF GDOES.pdf 附件下载 (下载 0 次)
Follow up of carbonitriding process by RF GDOES.pdf 附件下载 (下载 0 次)
Pulsed RF GDOES analysis of various inorganic materials for biomedical applications.pdf 附件下载 (下载 0 次)
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