上海三研SYDC-100H,200H型控温浸渍提拉镀膜机

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  • 上海三研
  • SYDC-100H,200H
  • 上海
  • 2025年07月14日
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      1000

    • 保修期

      3年

    • 现货状态

      10天

    • 供应商

      上海三研科技有限公司

    • 规格

      SYDC-100H,200H

    SYDC-100H

    一.产品应用
    本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液(溶胶)中,通过预先设置的参数,将浸渍后的基片以一定速度垂直提拉起来。在基片上附着一层膜,称为 “湿凝胶膜”,随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发,膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。
    二.产品简介
    浸渍提拉镀膜机是专门为液相(特别是sol-gel法)制备薄膜材料的研究工作而设计,对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数(多次多层镀膜)、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求,片状、块状、圆柱状等均可镀膜。运行稳定、工作时液面无振动,可极大提高实验精度与实验效率。
    适用于硅片、玻璃、陶瓷、金属等固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、产品生产。
    三.产品特点
    1.精密的垂直提拉装置。最新升级为瑞士原装进口的垂直提拉装置部件,采用特种功能材料制作,具有精密度高、传动无间隙、运行平滑、耐腐蚀、终身免维护、使用寿命长等特点。
    2.采用伺服电机驱动。配合瑞士原装进口的垂直提拉装置和程序控制系统,确保运行精度及稳定性,已达到完全消除提拉震动的效果,确保涂膜均匀。
    3.多参数全自动程序控制。共有六个参数设置:下降速度、浸渍时间、提拉速度、镀膜尺寸、镀膜次数、镀膜间隔时间,各参数均连续可调,精密控制。镀膜程序设定后,从下降到浸渍,再到提拉镀膜的整个镀膜过程全自动运行。
    4.镀膜系统采用7英寸液晶触摸屏使控制更方便;运行时,各项参数实时显示,更直观了解镀膜进程;
    5.整个镀膜过程在恒温温度场内进行。恒温场温度控制系统采用LCD液晶显示,可精密控温,温度均匀性好。可设置多段程序控温。
    6.上下两端均安装有限位传感器,提拉或下降运行时,到限位处自动停止,避免提拉或下降的超限运行。
    7.高、低速均运行平稳,运行连续、平滑。镀膜时液面无振动,使成膜更均匀; 
    8.特殊设计的平口型夹具,两面均匀夹持样片,不会夹坏样片; 
    四.技术参数
    1.提拉速度范围:1~6000 μm/s,最小分辨率1μm/s;
    2.适用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm;
    3.浸渍时间:1~3600 s,最小分辨率1s;
    4.循环镀膜次数:1~1000次,最少1次;
    5.每次镀膜间隔时间:1~3600 s,最小分辨率1s;
    6.恒温温度:RT+10~200℃,温度分辨率0.1℃;
    7.温度波动度:≤±1℃;
    8.恒温场内尺寸:340×320×320 mm(W×D×H);
    9.电源:220V/50Hz 

    SYDC-200H

    一.产品应用
    本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液(溶胶)
    中,通过预先设置的参数,将浸渍后的基片以一定速度垂直提拉起来。在基片上附着一层膜,
    称为 “湿凝胶膜”,随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发,膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干
    凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。
    二.产品简介
    浸渍提拉镀膜机是专门为液相(特别是sol-gel 法)制备薄膜材料的研究工作而设计,对不
    同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数(多次多层镀膜)、
    镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求,片状、块状、圆柱状等均可镀
    膜。运行稳定、工作时液面无振动,可极大提高实验精度与实验效率。
    适用于硅片、玻璃、陶瓷、金属等固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、产品生产。
    三.产品特点
    1.精密的垂直提拉装置。最新升级为德国原装进口的垂直提拉装置部件,采用特种功能材料
    制作,具有精密度高、传动无间隙、运行平滑、耐腐蚀、终身免维护、使用寿命长等特点。
    2.采用伺服电机驱动。配合德国原装进口的垂直提拉装置和程序控制系统,确保运行精度及
    稳定性; 伺服电机运转时的高精度、平滑性、无抖动等特点是步进电机不可比拟的。
    3.多参数全自动程序控制。共有六个参数设置:下降速度、浸渍时间、提拉速度、镀膜尺寸、
    镀膜次数、镀膜间隔时间,各参数均连续可调,精密控制。镀膜程序设定后,从下降到浸
    渍,再到提拉镀膜的整个镀膜过程全自动运行。
    4.镀膜系统采用7 英寸液晶触摸屏使控制更方便;运行时,各项参数实时显示,更直观了解
    镀膜进程;
    5.整个镀膜过程在恒温温度场内进行。恒温场温度控制系统采用LCD 液晶显示,可精密控温,
    温度均匀性好。可设置多段程序控温。
    6.上下两端均安装有限位传感器,提拉或下降运行时,到限位处自动停止,避免提拉或下降
    的超限运行。
    7.高、低速均运行平稳,运行连续、平滑。镀膜时液面无振动,使成膜更均匀;
    8.特殊设计的平口型夹具,两面均匀夹持样片,不会夹坏样片;
    四.技术参数
    1.提拉速度范围:1~8000 μm/s,最小分辨率1μm/s;
    2.适用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 200×200 mm,厚度MAX 10mm;
    3.浸渍时间:1~3600 s,最小分辨率1s;
    4.镀膜次数:1~1000 次,最少1 次;
    5.每次镀膜间隔时间:1~3600 s,最小分辨率1s;
    6.恒温温度:RT+10~200℃,温度分辨率0.1℃;
    7.温度波动度:≤±0.2℃;
    8.恒温场内尺寸:450×550×550 mm(W×D×H);
    9.电源:220V/50Hz

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