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实验室高精度匀胶旋涂仪SPIN200X

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  • ¥100000
  • 德国SPS
  • 德国
  • SPIN200X
  • 2026年03月09日
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      充足

    • 供应商

      MYCRO

    • 现货状态

      7天

    • 保修期

      1年

    • 规格

      SPIN200I

    MYCRO公司提供的实验室高精度匀胶旋涂仪SPIN150X、SPIN200X匀胶机等系列产品,请您放心选购!
    SPS匀胶机介绍
    SPS匀胶机是专为MEMS、半导体、光伏和微流体等领域的科研或小批量生产而设计制造的的,适用于清洗、甩干、涂胶、显影和刻蚀等多种工艺。
    SPIN 200X本匀胶机机身采用全工程塑料制作,您可以根据自身需求选择通用的材质机型或高密度PTFE材质机型。 
    POLOS匀胶机是SPS-Europe专为MEMS、半导体、光伏和微流体等领域的科研或小批量生产而设计制造的的,适用于清洗、甩干、涂胶、显影和刻蚀等多种工艺。
    POLOS匀胶机机身采用全工程塑料制作,您可以根据自身需求选择通用的材质机型高密度PTFE材质机型
    SPIN 150X匀胶机适用于小至5mm的小片样品,最大适配6“(φ150mm)的样品。
    SPIN 200X匀胶机适用于小至5mm的小片样品,最大适配8”(φ200mm)的样品。

    产品介绍

    品牌与型号‌:

    • 品牌‌:POLOS
    • 型号‌:POLOS-SPIN200x

    主要特性‌:

    • 设计‌:新的改进和创新设计,专为研发和小批量生产而设计。可用于手动或自动(可选)化学品分配的桌面版本。
    • 材质‌:由聚丙烯制成,也可采用PTFE制成。
    • 样品尺寸‌:最大直径8英寸(200mm)。
    • 最高转速‌:12000rpm,支持正反转。
    • 设计亮点‌:
      • 独特的外壳和排水管设计,允许在桌面和内甲板模型之间切换。
      • 配备液体过滤器,保护关键部件如驱动单元、真空阀、真空传感器和ServoBL控制器。
      • 盖锁和真空传感器确保用户安全。
      • 大型(可拆卸)触摸屏显示器,提供USB端口用于存储程序或更新设备。

    功能应用‌:

    • 适用于涂层、清洁、冲洗/干燥、显影、蚀刻、PDMI和其他流程。

    产品优势:‌
    多功能性‌:支持多种化学品的手动或自动分配,适用于多种工艺流程。

    • 高精度‌:高达12000rpm的转速,以及高加速度,确保精确的旋涂效果。
    • 用户友好‌:大型触摸屏显示器和USB端口,便于操作和程序管理。
    • 安全性‌:盖锁和真空传感器设计,保障用户安全。
    • 灵活性‌:独特的外壳和排水管设计,允许在不同模式之间切换,适应不同工作环境。

    使用POLOS SPIN200x匀胶机进行光刻胶的旋涂。通过精确控制转速和时间,实现了均匀且厚度一致的光刻胶涂层。该匀胶机的高精度和稳定性,确保了实验结果的可靠性和重复性。‌

    • 搜索关键词:POLOS SPIN150x匀胶机、旋涂技术、半导体工艺等。
    • 查阅相关领域的学术期刊、会议论文或技术报告,了解POLOS SPIN200x匀胶机在半导体制造、材料科学等领域的应用和研究。
    • 访问制造商官方网站或技术论坛,获取产品手册、技术指南或用户案例。

    由于具体文献可能因时间、领域和数据库的不同而有所变化,建议根据实际需求和可访问的资源进行有针对性的搜索。

    SPIN 150X/200X匀胶机还有丰富的配件供您选择,您可以参考产品介绍书或直接联系我们; 
    迈可诺技术有限公司中国营销服务中心联系!

    主营产品:匀胶机,旋涂仪,甩胶台,匀胶台,涂层机,涂胶机,涂膜机,旋转涂敷仪, HPC,PPC, PAC,SCE系列等离子清洗机, Cargille光学试剂,光刻机/曝光机,压力机, 压片机, 热压机,WABASH热压机, CARVER热压机,SPS匀胶旋涂仪、LAURELL匀胶机、HOT PLATE热板 烤胶机 Harrick等离子清洗机 Diener等离子清洗机
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    Laurell EDC系统,湿站系统 NXQ光刻机
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    公司名称:迈可诺技术有限公司
    联系人:赵先生

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      ,为节约起见,使用时可事先用酶反应缓冲液(1×)进行稀释。另外,酶通常保存在50%的甘油中,实验中,应将反应液中甘油浓度控制在1/10之下,否则,酶活性将受影响。   4、 观察DNA离不开紫外透射,可是紫外光对DNA分子有切割作用。从上回收DNA时,应尽量缩短光照时间并采用长波长紫外灯(300-360nm),以减少紫外光切割DNA。   5、 EB是强诱变剂并有中等毒性,配制和使用时都应戴手套,并且不要把EB洒到桌面或地面上。凡是沾污了EB的容器或物品必须经专门处理后才能清洗或丢弃。   

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