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- 2025年07月05日
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MetPrep 3TM 研磨抛光机
MetPrepTM 研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可另配AP-3研磨头。它的微处理器能够编程控制10个菜单程序，包括控制开始/停止，时间，研磨样品的力度（研磨头控制），研磨盘方向/速度，轻推速度以及喷淋控制。
强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。
本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。
可选设备AD-4的自动液体配送功能用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。
特点：
采用触摸按键控制所有功能
研磨盘可随意的顺/逆时针旋转
背射光 LCD 显示
坚固的铝/钢机身结构
新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀
保护罩抗腐蚀抗冲击
研磨盘速度范围：10-400RPM
轻推速度范围：10-150RPM
电子冷却采用阀门调节控制
密码保护功能
Item No. 规格
5-2000 MetPrep 3TM 8”(203mm)研磨抛光机
包括：8”(203mm) 铝制研磨盘，润滑油圈 和研磨盘罩 115V 50/60Hz
5-2000-230 MetPrep 3TM 230V 50/60Hz
5-2500 MetPrep 3TM 8”(203mm)研磨抛光机，配套AP-3研磨头
包括：8”(203mm) 铝制研磨盘，润滑油圈 和研磨盘罩 115V 50/60Hz
5-2500-230 MetPrep 3TM 8”(203mm)研磨抛光机，配套AP-3研磨头
230V 50/60Hz
附件
5-2005 8”(203mm)铝制研磨盘
5-2010 8”(203mm)PVC 研磨盘
MetPrep 4 TM 研磨抛光机
MetPrep 4TM 研磨抛光机用于手工样品制备和半自动样品制备，可另配AP-4研磨头。它的微处理器编制有10个菜单，包括：开始/停止，时间，研磨样品的力度（研磨头控制），研磨盘方向/速度，轻推速度以及液体配送控制。MetPrep 4TM 可用多种规格的研磨盘（10"（250mm）和12"）
MetPrep 4TM 研磨抛光机采用一个1至11/2马力的强力三段AC马达，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。MetPrep 4TM 采用一个电子螺线管传输冷却液，并通过阀门控制传输量。 MetPrep 4 随机赠送所有关于研磨头运转的控制附件。 可选设备AD-4 的自动流分配功能用于在无人操作条件下自动完成周期工作。
特点：
触摸式控制面板
背射光LCD显示
AP-4研磨头可以完成10 mounts,0-90 psi的样品
研磨头速度范围：10-150 RPM
研磨盘速度范围：50-400 RPM
轻推速度范围：50-400 RPM
研磨盘可顺/逆时针旋转
稳固的铝/钢机身
研磨盘可快速拆卸，电镀层耐磨损耐腐蚀
防腐蚀防飞溅保护罩
可调节的液体配送量
密码保护
美国设计并制造
Item No. 规格
5-6000 MetPrep 4TM 10/12"研磨抛光机
包括：润滑油圈，研磨盘保护罩（研磨盘单独销售），115V 50/60Hz
5-6000-230 MetPrep 4TM 10/12"研磨抛光机
包括：润滑油圈，研磨盘保护罩（研磨盘单独销售）， 230V 50/60Hz
5-6510 MetPrep 4TM /AP-4 配套装置
包括：10"（250mm）铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，115V 50/60Hz
5-6510-230 MetPrep 4TM /AP-4 配套装置，
包括：10"（250mm）铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，230V 50/60Hz
5-6512 MetPrep 4TM /AP-4 配套装置
包括：12"铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，115V 50/60Hz
5-6512-230 MetPrep 4TM /AP-4 配套装置
包括：12"铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，230V 50/60Hz
DualPrep 3TM 研磨抛光机
DualPrep 3TM 研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可另配AP-3研磨头。它的微处理器能够编程控制10个菜单程序，包括控制开始/停止，时间，研磨样品的力度（研磨头控制），研磨盘方向/速度，轻推速度以及喷淋控制。
强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。
本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。
可选设备AD-4的自动液体配送功能用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。
特点：
触摸式控制面板
背射光LCD显示
AP-4研磨头可以完成10 mounts,0-90 psi的样品
研磨头速度范围：10-150 RPM
研磨盘速度范围：50-400 RPM 轻推速度范围：50-150 RPM
研磨盘可顺/逆时针旋转
稳固的铝/钢机身
研磨盘可快速拆卸，电镀层耐磨损耐腐蚀
防腐蚀防飞溅保护罩
电子冷却采用阀门调节控制
密码保护
美国设计并制造
Item No. 规格
5-9000 DualPrep 3TM 8”研磨抛光机
包括：润滑油圈，研磨盘保护罩（研磨盘单独销售），115V 50/60Hz
5-9000-230 DualPrep 3TM 8”研磨抛光机
包括：润滑油圈，研磨盘保护罩（研磨盘单独销售）， 230V 50/60Hz
5-9508 DualPrep 3TM AP-4研磨头系统
包括：(2) 8"铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，115V 50/60Hz
5-9508-230 DualPrep 3TM AP-4研磨头系统
包括：(2) 8"铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，230V 50/60Hz
5-9510 DualPrep 3TM AP-4研磨头系统
包括：(2) 10"（250mm）铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，115V 50/60Hz
5-9510-230 DualPrep 3TM AP-4研磨头系统
包括：(2)10"（250mm）铝制研磨盘，润滑油圈，研磨盘保护罩，230V 50/60Hz
附件
5-2005 8”(203mm)铝制研磨盘
5-2010 8”(203mm) PVC 研磨盘
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文献和实验细胞凋亡是一种在基因控制下的细胞主动死亡过程，通常表现为核浓缩，起皱，膜发泡以及 DNA 片段化。WB 是研究细胞凋亡机理的基本方法之一，但是 WB 也不是谁都能做成功的，因为有可能你的第一步就做错了！用 WB 做细胞凋亡研究样品制备是第一步，样品制备方法至关重要否则会得到错误的结果和结论。样品制备，看你是不是这样做的：自配裂解液或者购买 RIPA，加上样品研磨啊研磨，孵育啊孵育，然后离心扔掉沉淀（RIPA 不可溶组分），取上清（RIPA 可溶组分）进行下游实验。对对对！都是这么做啊，扔
蛋白表达量过低，无法达到 WB 检测下限；二是在样品制备过程中，目的蛋白发生了丢失。 总的来说，就是蛋白样品出了问题！ 三、如何解决 首先，我们需要了解目的蛋白的情况。通常我们可以借助 UniProt、BIOGPS、GEPIA、The Human Protein Atlas 等工具查询目的蛋白相关信息，明确目的蛋白的表达量、定位信息等基本情况之后，做出初步原因判断，再选择相应的解决方案。 （1）增溶目的蛋白 蛋白提取的过程实际可以看作是样品中蛋白溶出到裂解液中的过程。而在溶出过程中
细胞凋亡是一种在基因控制下的细胞主动死亡过程，通常表现为核浓缩，起皱，膜发泡以及 DNA 片段化。WB 是研究细胞凋亡机理的基本方法之一，但是 WB 也不是谁都能做成功的，因为有可能你的第一步就做错了！用 WB 做细胞凋亡研究样品制备是第一步，样品制备方法至关重要否则会得到错误的结果和结论。样品制备，看你是不是这样做的：自配裂解液或者购买 RIPA，加上样品研磨啊研磨，孵育啊孵育，然后离心扔掉沉淀（RIPA 不可溶组分），取上清（RIPA 可溶组分）进行下游实验。对对对！都是这么做啊，扔
