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- 2025年07月15日
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- 详细信息
- 技术资料
- 库存：
116
- 保质期：
1年
- 供应商：
上海晶抗生物工程有限公司
- 保存条件：
常温干燥避光密封保存
中文名称： 单层氮化硼薄膜（HBN）铜基
英文名称： Monolayer boron nitride film（HBN）
货 号： ML1170
CAS号： 7440-42-8
包 装： 1”x1 ”/ 2”x2 ”/ 3”x3 ”
参 数
1英寸x1英寸,铜基
2英寸x2英寸,铜基
3英寸x3英寸,铜基
保质期： 1年常温干燥避光密封保存
单层氮化硼薄膜（HBN）铜基
性 质
覆盖率：
基 底： Cu
晶粒尺寸： >4 um
应 用： 单层氮化硼薄膜（HBN）铜基可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。
其他信息： 常温干燥避光密封保存，保存期限1年。
英文名称： Monolayer boron nitride film（HBN）
货 号： ML1170
CAS号： 7440-42-8
包 装： 1”x1 ”/ 2”x2 ”/ 3”x3 ”
参 数
1英寸x1英寸,铜基
2英寸x2英寸,铜基
3英寸x3英寸,铜基
保质期： 1年常温干燥避光密封保存
单层氮化硼薄膜（HBN）铜基
性 质
覆盖率：
基 底： Cu
晶粒尺寸： >4 um
应 用： 单层氮化硼薄膜（HBN）铜基可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。
其他信息： 常温干燥避光密封保存，保存期限1年。
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