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TEM氮化硅薄膜
SG010Z
原位芯片生产的TEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造,可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形,适用于所有TEM样品杆,为适用于多种实验条件,原位芯片为科研人员提供了单窗格,多窗格及微孔窗格三种标准产品。氮化硅膜采用低应力技术(<250MPa),氮化硅膜薄透且不易破损,非常适合于前沿的生物、材料、物理、化学等方面的研究。
100级洁净环境
严格选用硅衬底材料
先进的工艺水平
薄膜应力<250Mpa
薄膜最薄可至10nm
窗口大小可至2cm
粗糙度低于0.5nm
均匀性优于5%
耐酸,耐碱,耐有机溶剂
产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | |
SG010Z | 10nm | 0.10×0.10mm | |
SG015Z | 10nm | 0.15×0.15mm | |
SG025Z | 10nm | 0.25×0.25mm | |
SG050Z | 10nm | 0.50×0.50mm | |
SG025A | 15nm | 0.25x0.25mm | |
SG050A | 15nm | 0.5x0.5mm | |
SG100A | 15nm | 1x1mm | |
SG025B | 30nm | 0.25x0.25mm | |
SG050B | 30nm | 0.5x0.5mm | |
SG100B | 30nm | 1x1mm | |
SG025C | 50nm | 0.25x0.25mm | |
SG050C | 50nm | 0.5x0.5mm | |
SG100C | 50nm | 1x1mm | |
SG050D | 100nm | 0.5x0.5mm | |
SG025E | 200nm | 0.25x0.25mm | |
SG050E | 200nm | 0.5x0.5mm | |
每盒包含10枚芯片 |
产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 窗口数 | 窗口间距 | ||
AR010Z | 10nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.35nm | ||
AR010A | 15nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.35mm | ||
AR010B | 30nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.35mm | ||
AR010C | 50nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.45mm | ||
TA015A | 15nm | 0.1x1.5mm | 2 | 0.45mm | ||
TA015C | 50nm | 0.1x1.5mm | 2 | 0.45mm | ||
每盒包含10枚芯片 |
产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 孔径 | 阵列 | 孔心间距 | |
ME050B | 30nm | 0.5x0.5mm | 2.8µm | 45x45 | 10µm | |
ME050C | 50nm | 0.5x0.5mm | 2.0µm | 45x45 | 10µm | |
ME050C10 | 50nm | 0.5x0.5mm | 10µm | 32x32 | 10µm | |
ME050E05 | 200nm | 0.5x0.5mm | 5µm | 49x49 | 10µm | |
每盒包含10枚芯片 |
产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 孔径 | 阵列 | 孔心间距 | |
NE005C10 | 50nm | 50×50µm | 1.0µm | 15x15 | 2.0um | |
NE050C10 | 50nm | 0.5x0.5mm | 1.0µm | 15x15x4 | 5.0µm | |
NE005E10 | 200nm | 50×50µm | 1.0µm | 15x15 | 2.0µm | |
NE050E10 | 200nm | 0.5x0.5mm | 1.0µm | 15x15x4 | 5.0µm | |
每盒包含10枚芯片 |
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TEM氮化硅膜取用指导(20190606).pdf 附 (下载 1 次)