Fmoc-D-Val-Wang 树脂,Fmoc-D-Val-
Wang Resin,**科研现货速达** HPLC 随货提供COA、HPLC谱图、MS谱图，NMR图谱等，详细联系客服。用于LC-MS/MS定量分析，代谢组学、质谱，药代动力学等- 询价
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- 详细信息
- 文献和实验
- 技术资料
- 英文名：
H-b-HoGly(allyl)-OH
- 库存：
999
- 供应商：
智溯科ZSK
- CAS号：
270263-02-0
- 规格：
10mg///100mg///200mg
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文献和实验。1.1.2 N-羟基琥珀酰亚胺酯法：该方法原理与对硝基酚法一致，唯一不同点在于线性多肽的C端羧基在缩合剂EDC的存在下与N-羟基琥珀酰亚胺（HONSu）缩合，形成直链多肽的N-羟基琥珀酰亚胺酯。应用这种方法Toshihisa等在吡啶溶液中合成了cyclo（Pro-Val-Pro-Val）和cyclo（Pro-D-Val-Pro-D-Val），收率分别为15%和12%。二者为非对映异构体，前者具有植物生长抑制作用，后者却表现为植物生长促进作用。1.1.3五氟苯酚酯法：这类活泼酯用于环肽的合成是近年才发展
，首先第一个Fmoc氨基酸通过一个酸性接头接到不溶载体树脂上，Fmoc去保护通过用碱处理树脂来完成，一般是Poperidine。 用预先激活或原位激活连接第二个Fmoc氨基酸。要求总多肽合成后，通过TFA分离来除去树脂和去保护。 Fmoc分离 固相多肽合成中多肽分离主要用酸解 Fmoc法用弱酸，比如TFA或TMSBr。各种添加剂， 一般为thiol compound , 水和酚，用来保护多肽的免分离中Carbocation的破坏。 下列保护基与TFA和TMSBr分离相合
固相多肽合成就是不断地在固相载体上加入α-氨基和侧链基团被保护的氨基酸。FMOC基团是用来保护α-氨基中的N的，去除保护基团后，再加入第二个氨基酸。产生的多肽通过一个连接臂将C端连接在树脂上，它可以被裂解下来。通常情况下，在多肽从树脂上裂解下来的同时去除侧链保护基团，一般采用哌啶去FMOC保护基团，肽树脂的裂解和侧链保护基团去除一般用强酸，比如三氟乙酸，N,N-二甲基甲酰胺（DMF）是树脂去保护、氨基酸反应和洗涤的首选溶剂。1. 合成步骤： 步骤溶液或溶剂循环数时间1DMF2次30s2含20
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