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Nano美国 Nano DeBEE 实验室用 新一代改进型超

高压对射流均质机
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  • 2025年07月11日
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      大量

    • 规格

      200 ug

    1.机台最高使用压力可达45000PSI(310MPa)
    2.可调背压:0~2000 PSI(13.1MPa)
    3.电源为二相的220V
    4.最大处理流量为50ml/min
    5.操作样品最小量为10ml
    6.容易拆装和清洗,可被蒸压灭菌
    7.工作工况低于65分贝
    8.尺寸:长73cm×宽15cm×高33cm
    9.机台重量:25公斤

    1 专利型DeBEE特有的乳化分散均质核心件,无活动部件。
    2 分散均质部件可自行调控,为您提供广泛的实验室应用。
    3 电动液压式实验室机型,220V单相电源,可根据产品选择工作压力
    4 核心件为金刚石材质,耐用性好,操作简易,易清洗。
    5 另可根据客户产品属性工艺等采用不同的均质原理方法定制合适的核心件。

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