新型疏水层析填料实现寡核苷酸的一步纯化及柱上5'-DMT剪切
444 人阅读发布时间:2025-10-04 11:16
本应用中我们展示了使用东曹新型疏水层析填料TSKgel Phenyl-3PW(20),对20-mer单链DNA寡核苷酸进行一步纯化及柱上DMT脱保护的纯化工艺。在pH 4.0条件下,柱上剪切并去除寡核苷酸5'-DMT帽,且低pH处理不会破坏寡核苷酸,该工艺展现出良好的可扩展性。可以简化寡核苷酸纯化流程,同时兼具高收率和产物完整性。
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使用新型疏水填料一步纯化及柱上5DMT剪切.pdf
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