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- 2025年07月14日
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北京欧屹科技
无掩膜光刻机概述：
- 显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。
- 使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪，将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
- 图案可以在PC上自由创建。
- 因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极，所以它比电子束光刻便宜且简单，不需要制造昂贵的电极图案掩膜。
无掩模光刻机应用：
- 薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。
- 从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。
- 研发应用的图案形成。
无掩膜光刻机参数：
- 由于显微镜和DLP的结合，可以用很低的成本来构建系统
- 易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案
- 通过物镜放大倍率图案，可以进行大范围的批量曝光
- 可以连接到您自己的显微镜上（选项）
- 分辨率在微米级
- 曝光范围：最大2.5mm×1.5mm 最小100um×60um
- 可以连接到您自己的显微镜上（选项）
- 分辨率在微米级
- 曝光范围：最大2.5mm×1.5mm 最小100um×60um
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文献和实验的DNA芯片公司，已使用制造计算机半导体芯片相同的技术。他们使用光敏掩膜和光来选择性的在硅板上显露反应位点，然后附上核酸。因为核酸由A，T，C和G组成，需要四套掩膜和四次反应。现在可购得的 affiy芯片包含25个核酸，这需要100个掩膜和反应。一种新的芯片布满光活性罩，当光选择性的通过掩膜时，反应物基团被暴露于光线之下然后与下面的个体反应。 Affimetrix正在生产酵母，人，小鼠和其他的DNA芯片， 而且这些被用于一次测量所有的基因表达。但是，普通的基因由数以千计的碱基组成，使用只有25个碱基
乃至数千化合物. 现在, 芯片技术被用于肽或核苷低聚物的合成, 后者发展以至进入DNA芯片和基因芯片. 这里举肽合成为例. 芯片的玻璃表面用化学方法修饰而产生用光敏基团保护的氨基. 预先设计的掩膜覆盖到芯片上, 然后使光射到需要反应的位置上而除掉保护基从而暴露出氨基. 整个芯片置于反应釜中然后吸附氨基酸A到暴露的区域. 使用不同的掩膜, 暴露光到第二区域, 使氨基酸B在那里偶联. 如被引入的氨基酸也被光敏基团保护, 在完成第一层合成后, 上层合成可被重复以达到目标大小
印刷技术(photolithographicapproach)运用到DNA合成化学中，利用固相化学、光敏保护基及光刻技术得到位置确定、高度多样性的化合物集合。该法利用光敏保护基来保护碱基单位的5’羟基。第一步利用光照射使固体表面上的羟基脱保护，然后固体表面与光敏保护基保护、亚磷酰胺活化的碱基单体接触，合成只在那些脱保护基的地方进行。光照区域就是要合成的区域，该过程通过一系列掩膜来控制。如此循环以合成寡核苷酸，直到设定的寡核苷酸长度。每个寡核苷酸片段代表了一种特定的基因存在于DNA芯片的特定位置上，可合成任意序列15—25个碱基长度的片段。这种方法可使
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