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光电轮廓仪 WGL
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性能和特点:本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法,测量时不损伤工件表面,能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形,并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度;标尺、度盘的刻线深度;光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌;磁(光)盘、磁头表面结构测量;硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。由于仪器测量*度高,具有非接触和三维测量的特点,并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果,本仪器适用于各级测试、计量研究单位工矿企业计量室,*密加工车间,也适用于高等院校和科学研究单位等。
技术参数:表面微观不平深度测量范围在连续表面上,相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时:1000 一1nm 相邻二象素之间含有大于1 / 4 波长的高度突变时:130 一1nm 测量的重复性:δRa ≤0.5nm 物镜倍率:40X 数值孔径:Φ 65 工作距离:0.5mm 仪器视场 目视: Φ0.25mm摄象: 0.13×0.13mm仪器放大倍数 目视: 500× 摄象(计算机屏幕观察)一2500×接收器测量列阵:1000X1000 象素尺寸:5.2×5.2μm 测量时间采样(扫描)时间:1S仪器标准镜 反射率(高): ~50 % 反射率(低): ~4 %照明光源:白炽灯6V 5W绿色干涉滤光片波长:λ≒530nm 半宽度λ≒10nm 主显微镜升程:110 mm 工作台升程:5 mm X 、丫方向移动范围: ~10 mm 工作台旋转运动范围:360° 工作台顷斜范围:±6° 计算机系统:P4 , 2 .8G 以上,内存1G以上17寸纯平显示器
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