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上海净信

这些不锈钢探针有闭合尖锐的末端。我们可以提供3个26ga针传感器在和1或2个23ga针传感器。
MT系列针微探针
订购时,请指定:探头系列((MT)、针距、针长、传感器的数量和传感器之间的距离(厘米)。
例如mt-23 / 5(2)是一个23ga针,5厘米针距,5cm针长,2个传感器。除非另有规定,传感器将从尖端算起距离1CM。
我们还生产可互换的单传感器探头和微探针。我们的热电偶探头包括临床探头,皮肤,直肠,口腔和食道。我们有可植入的针和灵活的传感器和探头测量表面、液体和空气。对个别探头更多的描述性信息见我们的可更换探头和传感器数据表。
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文献和实验1942年,C.H.Waddington首次提出表观遗传学(epigenetics)的概念,并指出表观遗传与遗传是相对的,它主要研究基因型和表型的关系。几十年后,霍利迪(R. Holiday)针对表观遗传学提出了更新的系统性论断,也就是人们现在比较统一的认识[1],即在不改变基因组序列的前提下,通过DNA和组蛋白的修饰来调控基因表达,这种修饰以DNA甲基化最为常见。继人类基因组计划结束后,2003年人类表观基因组协会(Human Epigenome Consortium, HEC)宣布开始投资和实施
种方法是Affymetrix公司开发的光引导原位合成法,该方法是微加工技术中光刻工艺与光化学合成法相结合的产物。第二种方法是Incyte Pharmaceutical公司采用的化学喷射法,该方法是将合成好的核昔酸探针定点喷射到芯片上并加以固定化来制作DNA芯片。第三种方法是斯坦福大学研制的接触式点涂法。在DNA芯片制备中通过高速精密机械手的精确移动让移液头与玻璃芯片接触,而将DNA探针涂敷在芯片上。第四种方法是通过使用4支分别装有A,T,G,C核昔的压电喷头在芯片上并行地合成出DNA探针。光引导合成
合成法. 光学光刻制版技术用来制备光刻掩模(pho to lithograph ic m ask) , 光导化学合成技术用来在固相载体上利用光进行DNA 合成。 运用这种方法制作的芯片密度可达106 个探针·cm - 2, 即探针间隔为5- 10 Lm 。 用这种方法制备的基因芯片需要预先设计、制造一系列掩模, 造价昂贵; 制造过程中采用光脱保护法, 掩模孔径较小时会发生光衍射现象, 制约了探针密度的进一步提高; 光脱保护不彻底, 每步产率(step yield) 只有92% - 94% , 因此这种方法








