Tripod Polisher 590 三脚抛光器

三脚抛光器由IBM East Fishkill实验室的科学家设计，是一款制备微米级的SEM和TEM电镜样品的精密仪器。它能将样品抛光至1μm或更小，大大降低了样本对离子减薄的依赖，缩短了制备时间，在制备TEM样品时能够将离子减薄时间限制在15分钟以内，甚至某些时候它可以省去离子减薄工序。Tripod Polisher 590可用于各种平面样品和于截面样品的制样。适用于多种材料，比如陶瓷、高分子复合材料、金属、地矿物质、半导体材料等。

操作-标准法

PELCO® Tripod PolisherTM 590可制备用于扫描电镜和透射电镜横截面分析的样品。为此，在PELCO® Tripod PolisherTM 590的带槽的L形支架上夹放一个特殊的扫描电镜样品座，将样品置于其上。首先，在15μm粘合金属的金刚石盘上进行初步研磨，再依次使用30μm到0.5μm系列尺寸的金刚石膜进行研磨和抛光，最后用二氧化硅悬浮液完成抛光过程。

在研磨过程中，通过后面的两个千分尺调整抛光面。使用倒置显微镜进行定期检查，调整抛光面，直至其与感兴趣面平行。此时，可将扫描电镜样品座移至离子研磨机中进行快速研磨，以去除细微的划痕、抛光碎屑，在扫描电镜分析前得到样品表面形貌。扫描电镜样品座可直接放入扫描电镜分析。分析完成后，制作同一区域的透射电镜样品。从扫描电镜样品座上取下样品，贴在单孔TEM栅网上。拆下带槽的L形支架，将TEM栅网置于抛光机中心的圆形样品支架上。使用金刚石研磨膜（Diamond Lapping Film）对样品进行机械减薄。在此过程中，使用倒置显微镜定期检查，并通过调节千分尺使抛光面处于正确位置。样品最终抛光至1μm或更薄，然后离子研磨15分钟。

操作-楔形法

快速离子研磨中产生的择优减薄和形貌使不同材料间界面的研究变得困难。可通过完全消除离子研磨步骤和采用楔形技术将样品机械抛光到电子透明厚度来较少这些问题的发生。采用这种技术时，用Pyrex®插件替换带槽的L型支架中的SEM样品座，将样品置于插头端面上。

 

产品编号	描述
59100	PELCO®  Tripod  Polisher 590TEM 透射电镜精密样品制备
59200	PELCO®  Tripod  Polisher 590SEM 扫描电镜精密样品制备
59300	PELCO®  Tripod  Polisher 590TS 用于SEM和TEM样品制备