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直销纳米超细高剪切胶体磨厂家
根据一些行业的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000超高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。
CMS2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,最小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。 IKN纳米高剪切胶体磨和国内设备对比
三级结构
磨头结构
转速
最大线速度
模块头
密封类型
产品效果
国内设备
沟槽是直线,同级的沟槽深度一样
沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下
目前是不通过变频器来调节,若通过变频调节,他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM(这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。)
大约在10-15M/S
只有一种模块头
单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
IKN
上海依肯
沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅
斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大
可以通过变频调速,转速可达7890/13789RPM ,通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小)
23-40 M/S
可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块
双机械密封,易于清洗,将泄漏降至最低,可24小时不停运转
可实现1-10微米小粒径材料加工
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