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天津1700℃真空CVD系统
1700℃真空CVD系统由高温管式炉,高真空扩散泵/分子泵系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.001—0.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点:
1、真空系统可根据使用要求选择我司扩散泵机组或分子泵机组;
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;
4、每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全可靠。 5、采用水冷KF快速法兰密封,装卸方便快捷;
6、管路采用世界顶级Swagelok卡套连接,不漏气;
7、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,保证设备及实验的安全性。主要用途和适用范围:适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。主要技术参数:
主要技术参数:
SGL-1700
高温炉
控温方式
采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制50段升降温程序。
加热元件
进口1700型优质硅钼棒
工作电源
AC220V 50Hz/60Hz;额定功率6kw
炉管材质
99瓷氧化铝刚玉管
炉管尺寸
Φ60/80/100*/1000mm
工作温度
≤1600℃
最高温度
1650℃
恒温精度
±1℃
升温速度
≤10℃/min
测温元件
B型热电偶
密封方式
不锈钢水冷KF法兰挤压密封
ZK
真空系统
ZK-F
ZK-K
真空范围
0.1-0.001Pa
0.1-0.01Pa
极限真空
5.0*10^-5Pa
5.0*10^-4Pa
产品配置
双级旋片真空泵+分子泵
双级旋片真空泵+扩散泵
冷却方式
风冷
水冷
抽 速
110L/S
100L/S
测量方式
复合真空计
真空规管
电阻规+电离规
ZDC-I
压强控制系统
测量范围
1*10^5~1*10^-1 Pa
稳压
(真空)范围
1*10^3~1*10Pa
压力
(稳定精度)
±3%
控制范围
2.5*10^3~5*10^-1 Pa
控制精度
± 1%
HQZ-Ⅲ
混气系统
控制方式
D07-7K质量流量计,D08流量显示仪
流量规格(可订制)
0-500SCCM /0-1SLM,
线 性
±1%F.S.
准确度
重复精度
±0.2%F.S.
响应时间
≤2sec
耐 压
3MPa
气路通道
3通道(根据客户需求)
针 阀
316不锈钢
管 道
Φ6mm不锈钢管
接 口
SwagelokΦ6mm
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