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微波等离子去胶机
桌面式微波等离子体去胶机 立式微波等离子体去胶机
产品优势:
去胶快速彻底
对样片无损伤
操作简单安全
设计紧凑美观
产品性价比高
产品用途:
高剂量离子注入光刻胶的去除
湿法或干法刻蚀前后的去残胶
MEMS中牺牲层的去除
去除化学残余物
清除浮渣工艺
SU-8胶的去除:
MEMS工艺中经常用到SU8光刻胶,然而SU8非常稳定,其最致命的缺点就是去胶困难。为了解决SU-8光刻胶的去胶问题,我们向您推荐德国Alpha Plasma专业的SU-8微波等离子体去胶机,该设备采用氟基气体的去胶工艺,利用氟基气体与SU-8胶的化学反应,实现快速去除SU-8功能。同时设备中还集成了温控系统,去胶过程中对衬底温度的控制保证了高深宽比金属结构的完整性,最终实现高质量MEMS器件的制备。SU-8去胶速率验收指标为1μm/min,实验中可达到几个微米。因此这款专业的SU8去胶机是MEMS去胶工艺的理想选择。
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