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氩离子抛光仪IB-19510C
IB-19500CP离子研磨仪是一款操作简便的制样设备,用于SEM, EPMA, 和TEM的样品制备。它可以制备软的、硬的和复合材料的样品,损伤、污染和变形可以控制得非常小。依靠离子束轰击制备样品剖面,观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料。
标配的间歇加工模式,可以减轻对样品的热损伤。 间隔设置可以以1秒为单位进行。
可提供500μm/h(8KV/2小时的平均值)的研磨速率
可通过CCD相机实时查看截面加工状态。 可以改变放大倍率。
快速加工之后,通过设定精细抛光参数可以减轻离子束对加工截面表层的损伤。
离子研磨仪IB-19510CP
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