Fmoc-D-亮氨酸-Wang树脂 Fmoc-D-Leu-
Wang Resin nan **科研现货速达** ≥98% HPLC 随货提供COA、HPLC谱图、MS谱图，NMR图谱等，详细联系客服。用于LC-MS/MS定量分析，代谢组学、质谱，药代动力学等- 询价
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- 2025年08月09日
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- 详细信息
- 文献和实验
- 技术资料
- 英文名：
Fmoc-D-Leu-Wang Resin
- 库存：
999
- 供应商：
智溯科ZSK
- 规格：
10mg///100mg///200mg
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文献和实验中的所有序列具有同样的极性和非极性残基图形。遗传代码（图 9.2 ) 的组成分布使得这种序列简并性成为可能。简并密码 NTN 编码非极性氨基酸残基，而简并密码 NAN 编码极性氨基酸残基（N 表示 A、G、 T、C 的混合物；见 9.2.2 节中相关密码子的利用）。利用这些简并密码子，非极性位 置上的氨基酸可以是苯丙氨酸（Phe)、亮氨酸（Len)、异亮氨酸（lie )、甲硫氨酸 (Met) 或者缬氨酸（Val)；而极性位置的氨基酸则是谷氨酸（Glu)、谷氨酰胺 (Gin)、天冬氨酸（Asp
in DMF (v/v) to deprotect the Fmoc group. Agitate for 2 minutes and drain. Repeat with a 12 minute incubation. 4) Rinse the resin by adding 2 mL of DMF, agitating for 15 seconds, and draining. Repeat 3x. 5) Bromoacetylation
) Trimethyl orthoformate, 98% pure (Aldrich) p ‐Toluenesulfonic acid monohydrate, ≥98.5% pure (Aldrich)
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