
RTP快速退火炉 高持温能力,1000℃持温可达30min
- ¥320000 - 380000
- 螣芯电子
- Table-6
- 中国
- 2026年01月07日
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1年
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现货
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上海螣芯电子科技有限公司
RTP快速退火炉 高温持温能力,1000℃持温可达30min
RTP快速退火炉 高温持温能力,1000℃持温可达30min
快速退火炉RTP-Table-6
RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统,以红外可见光加热单片Wafer 或样品,工艺时间短,控温精度高,适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系 统和其他 RTP 系统,其腔体设计、温度控制技术和RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。
快速退火炉RTP-Table-6产品介绍
概要
RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统,以红外可见光加热单片Wafer 或样品,工艺时间短,控温精度高,适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系 统和其他 RTP 系统,其腔体设计、温度控制技术和RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。
产品特点
▲红外卤素灯管加热,冷却采用风冷;
▲灯管功率PID控温,可控制温度升温,良好的重现性与温度均匀性;
▲采用平行气路进气方式,气体的进入口设置在Wafer表面,避免退火过程中冷点产生,良好的温度均匀性;
▲大气与真空处理方式均可选择,进气前气体净化处理;
▲标配两组工艺气体,多可扩展至6组工艺气体;
▲可测单晶片样品的尺寸为6英寸(150mm);
▲采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,保障仪器使用安全。
行业应用
A、氧化物、氮化物生长
B、硅化物合金退火
C、GaAs工艺
D、欧姆接触快速合金
E、氧化回流
F、其他快速热处理工艺
基本配置
| 项目 | 指标 |
| 产品尺寸 | 6寸晶圆或者支持150x150mm产品 |
| 温度范围 | 室温~1250℃ |
| 升温速度 | 100℃/s可编程(此温度为不含载盘的升温速度) |
| 温度均匀度 | ±5℃≤ 500℃ ±1% >500℃ |
| 温度控制重复性 | ±1℃ |
| 温控方式 | 快速 PID 温控 |
| 衬底冷却方式 | 氮气吹扫 |
| 工艺气体 | MFC控制,常规三路气体(N/O/GN) |
| 控制方式 | 工业电脑+PC control |
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文献和实验小鼠肿瘤样本制备 颈椎脱臼法将荷瘤小鼠处死,75% 酒精浸泡 5 min,取出小鼠置于无菌操作台上。 左手持镊子,右手持弯剪,沿肿瘤边缘剪下长约 1cm 的口子,可清晰看见肿瘤附着于皮下,沿肿瘤边缘轻轻剪开连接处,剥离肿瘤。 将剥离的肿瘤放入100 mm 的培养皿中,并在室温下加入 5~10 mL 的 1640 基础培养基。 单细胞悬液的制备 A.混合酶消化法 待所有肿瘤剥离完毕后,将肿瘤转移至 1.5 mL EP 管中,手持弯剪将肿瘤充分剪碎,边剪边加入1640基础培养基,静置数秒
.(2)0.1%胰蛋白酶37℃消化20min,或抗原修复20min(98℃),自然冷却至室温。(3)0.05mol/L(pH7.4) TBS洗3×3min.(4)1%EA(卵蛋白)15min,不洗。(5)适当稀释的特异抗体室温4h或4℃孵育20h,或37C孵育30min.(6)0.05mol/L(pH7.4)TBS洗3×5min.(7)0.02mol/L(pH7.4)TBS(内含0.1%BSA)洗10min.(8)1%EA 15min,不洗,滴加PAGlonm 1:40稀释,室温1h,(9)0.05mo!/L(pH
,并用酒精或二甲苯棉球涂擦,或插入40℃~50℃温水中浸泡片刻,使尾部血管扩张。左手拉尾,选择扩张最明显的血管;右手持注射器(4~5号针头),将针头刺入血管,缓慢给药。如推注有阻力而且局部变白,说明针头不在血管内,应重新插入。穿刺时宜从近为尖部1/3处静脉开始,以便重复向上移位注射。一般用药量为0.1~0.2ml/10g,不宜超过0.5ml/10g。 二、家兔的捉持和给药方法 1、捉持方法 一般左手抓住兔颈背部皮肤,将其提起,右手托住臀部称坐位姿态。不要抓两耳,以防兔挣扎。 2、给药
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