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RTP快速退火炉 高持温能力,1000℃持温可达30min

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  • ¥320000 - 380000
  • 螣芯电子
  • Table-6
  • 中国
  • 2026年01月07日
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    • 文献和实验
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      1

    • 保修期

      1年

    • 现货状态

      现货

    • 供应商

      上海螣芯电子科技有限公司

    RTP快速退火炉 高温持温能力,1000℃持温可达30min

    RTP快速退火炉 高温持温能力,1000℃持温可达30min

    快速退火炉RTP-Table-6

    RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统,以红外可见光加热单片Wafer 或样品,工艺时间短,控温精度高,适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系 统和其他 RTP 系统,其腔体设计、温度控制技术和RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。

    快速退火炉RTP-Table-6产品介绍

     

    概要

    RTP-Table-6是在保护气氛下的桌面手动快速退火系统,以红外可见光加热单片Wafer 或样品,工艺时间短,控温精度高,适用 2-6 英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系 统和其他 RTP 系统,其腔体设计、温度控制技术和RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。


    产品特点

    ▲红外卤素灯管加热,冷却采用风冷;

    ▲灯管功率PID控温,可控制温度升温,良好的重现性与温度均匀性;

    ▲采用平行气路进气方式,气体的进入口设置在Wafer表面,避免退火过程中冷点产生,良好的温度均匀性;

    ▲大气与真空处理方式均可选择,进气前气体净化处理;

    ▲标配两组工艺气体,多可扩展至6组工艺气体;

    ▲可测单晶片样品的尺寸为6英寸(150mm);

    ▲采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,保障仪器使用安全。


    行业应用

    A、氧化物、氮化物生长

    B、硅化物合金退火

    C、GaAs工艺

    D、欧姆接触快速合金

    E、氧化回流

    F、其他快速热处理工艺


    基本配置

     

    项目 指标
    产品尺寸 6寸晶圆或者支持150x150mm产品
    温度范围 室温~1250℃
    升温速度 100℃/s可编程(此温度为不含载盘的升温速度)
    温度均匀度 ±5℃≤ 500℃  ±1% >500℃
    温度控制重复性 ±1℃
    温控方式 快速 PID 温控
    衬底冷却方式 氮气吹扫
    工艺气体 MFC控制,常规三路气体(N/O/GN)
    控制方式 工业电脑+PC control

     

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    图标文献和实验
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    • 小鼠肿瘤样本单细胞悬液的制备及注意事项

      小鼠肿瘤样本制备 颈椎脱臼法将荷瘤小鼠处死,75% 酒精浸泡 5 min,取出小鼠置于无菌操作台上。 左手镊子,右手弯剪,沿肿瘤边缘剪下长约 1cm 的口子,可清晰看见肿瘤附着于皮下,沿肿瘤边缘轻轻剪开连接处,剥离肿瘤。 将剥离的肿瘤放入100 mm 的培养皿中,并在室温下加入 5~10 mL 的 1640 基础培养基。 单细胞悬液的制备 A.混合酶消化法 待所有肿瘤剥离完毕后,将肿瘤转移至 1.5 mL EP 管中,手持弯剪将肿瘤充分剪碎,边剪边加入1640基础培养基,静置数秒

    • 免疫金银染色双PAG法

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    • 常见实验动物的捉和给药方法

      ,并用酒精或二甲苯棉球涂擦,或插入40~50℃水中浸泡片刻,使尾部血管扩张。左手拉尾,选择扩张最明显的血管;右手注射器(4~5号针头),将针头刺入血管,缓慢给药。如推注有阻力而且局部变白,说明针头不在血管内,应重新插入。穿刺时宜从近为尖部1/3处静脉开始,以便重复向上移位注射。一般用药量为0.1~0.2ml/10g,不宜超过0.5ml/10g。 二、家兔的捉和给药方法 1、捉方法 一般左手抓住兔颈背部皮肤,将其提起,右手托住臀部称坐位姿态。不要抓两耳,以防兔挣扎。 2、给药

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