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H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆盖100-400nm（3-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm（3-6.5eV）。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描，可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下，配备单通道探测器，H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统。
技术特点
单片式光学结构确保光通量最大化，高光学稳定性
配备4型消像差单色仪光栅，全光谱范围线色散均匀
全自动蜗轮高速驱动光栅
光栅表面镀氟化镁膜，优化120nm以上波长的输出
透射反射测量
荧光激发
可调滤波/光源
激光谐波滤波
| 光学设计 | HJY专利的4型消像差单色仪光栅 |
| 焦长 | 200 mm |
| 孔径 | f/4.2 |
| 刻线密度 | 1200 gr/mm |
| 光学镀膜 | 针对121nm优化的MgF2膜 |
| 偏转角 | 64° |
| 色散 | 100nm处3.6 nm/mm |
| 驱动 | 高速蜗轮驱动 |
| 最小步进 | 0.06 nm |
| 速度 | 400 nm/s |
| 精度 | +/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*) |
| 可重复性 | +/-0.06 nm |
|
分辨率 | 优于0.5 nm (**) |
| 高真空 | 10-5 mbar (***) |
| 真空泵法兰 | DN40 KF |
| 入射/出射接口 | 测微狭缝(10 um 至 2 mm) |
| 入射/出射法兰 | DN25 KF |
| 电脑接口 | USB2.0 |
| 可选项 | |
| 超高真空 | 10-9 mbar |
| 狭缝高度调节器 | 2, 4, 6 mm |
| (*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度 | |
| (**)使用宽10微米，高2mm的狭缝在121nm处测量 (***)H20-UVL不含真空泵和真空计 | |
附件
前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配
后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹配
样品室，可搭载4块直径不大于25mm的样品
偏振插片
制冷机，最低至4K
真空泵
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上海市天山西路1068号联强国际广场Ａ栋１层Ｄ单元
实验室仪器 / 设备
生产厂商
2020.12.28-2021.01.31
2020.12.28-2021.01.31
2020.12.10-2025.12.31
